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[VLP]非常低调的ED铜箔

简短描述:

VLP, 非常低剖面电解铜箔由Civen Metal 具有 低的 粗糙度和高骨强度。电解过程产生的铜箔具有高纯度,低杂质,光滑的表面,平坦的板形和宽宽度的优势。一侧粗糙后,电解铜箔可以更好地用其他材料层压,而且剥落并不容易。


产品细节

产品标签

产品简介

VLP,由Civen Metal产生的非常低的电解铜箔具有低粗糙度和高骨强度的特征。电解过程产生的铜箔具有高纯度,低杂质,光滑的表面,平坦的板形和宽宽度的优势。一侧粗糙后,电解铜箔可以更好地用其他材料层压,而且剥落并不容易。

规格

Civen可以提供从1/4盎司至3盎司(标称厚度为9µm至105µm)的超低剖面高温电解电解铜箔(VLP),最大产品尺寸为1295mm x 1295mm x 1295mm板纸铝箔。

表现

civen 提供超厚的电解铜箔具有术的出色物理特性,具有e米细晶体,低剖面,高强度和高伸长率。 (请参阅表1)

申请

适用于制造高功率电路板和用于汽车,电力,通信,军事和航空航天的高频板。

特征

与类似的外国产品进行比较。
1.我们的VLP电解铜箔的晶粒结构是等晶体球形的;而相似的外国产品的谷物结构是柱状和长的。
2。电解铜箔是超低的剖面,3盎司铜箔毛皮表面RZ ≤3.5µm;虽然类似的外国产品是标准配置文件,但3盎司铜箔毛地表面RZ> 3.5µm。

优势

1.由于我们的产品是超低的轮廓,由于标准厚的铜箔的粗糙度较大,因此解决了线路短路的潜在风险,并且在按下双面面板时,“狼齿”稀薄的绝缘板易于渗透。
2.由于我们产品的晶粒结构是等晶的细晶体球形,因此它缩短了线蚀刻的时间并改善了线侧蚀刻不均的问题。
3,虽然具有较高的果皮强度,但没有铜粉转移,但清晰的图形PCB制造性能。

性能(GB/T5230-2000,IPC-4562-2000)

分类

单元

9μm

12μm

18μm

35μm

70μm

105μm

CU内容

%

≥99.8

区域

g/m2

80±3

107±3

153±5

283±7

585±10

875±15

抗拉强度

RT(23℃)

kg/mm2

≥28

HT(180℃)

≥15

≥18

≥20

伸长

RT(23℃)

%

≥5.0

≥6.0

≥10

HT(180℃)

≥6.0

≥8.0

粗糙度

闪亮(RA)

μm

≤0.43

磨砂(RZ)

≤3.5

剥离强度

RT(23℃)

kg/cm

≥0.77

≥0.8

≥0.9

≥1.0

≥1.5

≥2.0

HCφ的退化率(18%-1HR/25℃)

%

≤7.0

颜色的更改(E-1.0HR/200℃)

%

好的

焊料漂浮290℃

≥20

外观(斑点和铜粉)

-----

没有任何

针孔

EA

尺寸公差

宽度

mm

0〜2mm

长度

mm

-----

mm/英寸

内径79mm/3英寸

笔记:1。铜箔毛表面的RZ值是测试稳定值,而不是保证的值。

2。果皮强度是标准的FR-4板测试值(5张7628pp)。

3。质量保证期是收据之日起90天。


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