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[VLP] 超薄ED铜箔

简短描述:

VLP, 非常采用低剖面电解铜箔法生产奇文金属 具有以下特征 低的 电解法生产的铜箔具有表面粗糙度高、剥离强度高等优点,纯度高、杂质少、表面光滑、板形平整、宽度大。经单面粗糙化处理后,电解铜箔能更好地与其他材料复合,且不易剥离。


产品详情

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产品介绍

CIVEN METAL生产的VLP(超薄型)电解铜箔具有表面粗糙度低、剥离强度高的特点。采用电解工艺生产的铜箔具有纯度高、杂质少、表面光滑、板形平整、幅宽大等优点。单面粗糙化处理后,电解铜箔能更好地与其他材料复合,且不易剥离。

规格

CIVEN 可提供 1/4 盎司至 3 盎司(标称厚度 9µm 至 105µm)的超低厚度高温延展性电解铜箔 (VLP),最大产品尺寸为 1295mm x 1295mm 的铜箔片。

表现

西文 提供具有优异物理性能的超厚电解铜箔,包括等轴细晶、低厚度、高强度和高延伸率。(见表1)

应用程序

适用于汽车、电力、通信、军事和航空航天等行业的大功率电路板和高频电路板的制造。

特征

与国外同类产品比较。
1.我公司生产的VLP电解铜箔的晶粒结构为等轴细晶球状;而国外同类产品的晶粒结构为柱状长条状。
2. 电解铜箔为超薄型,3盎司铜箔毛面粗糙度Rz≤3.5µm;而国外同类产品为标准型,3盎司铜箔毛面粗糙度Rz>3.5µm。

优势

1.由于我们的产品是超薄型的,因此解决了标准厚铜箔粗糙度大、压双面面板时“狼牙”容易刺穿薄绝缘片而导致线路短路的潜在风险。
2.由于我们产品的晶粒结构为等轴细晶球,因此缩短了线蚀刻时间,改善了线侧蚀刻不均匀的问题。
3、同时具有高剥离强度、无铜粉转移、清晰的图形PCB制造性能。

性能(GB/T5230-2000、IPC-4562-2000)

分类

单元

9微米

12微米

18微米

35微米

70微米

105μm

铜含量

%

≥99.8

面积重量

克/米2

80±3

107±3

153±5

283±7

585±10

875±15

抗拉强度

室温(23℃)

千克/毫米2

≥28

HT(180℃)

≥15

≥18

≥20

伸长

室温(23℃)

%

≥5.0

≥6.0

≥10

HT(180℃)

≥6.0

≥8.0

粗糙度

Shiny(Ra)

微米

≤0.43

Matte(Rz)

≤3.5

剥落强度

室温(23℃)

千克/厘米

≥0.77

≥0.8

≥0.9

≥1.0

≥1.5

≥2.0

HCΦ的降解率(18%-1hr/25℃)

%

≤7.0

颜色变化(E-1.0小时/200℃)

%

好的

焊锡浮焊温度290℃

≥20

外观(斑点和铜粉)

----

没有任何

针孔

EA

尺寸公差

宽度

mm

0~2毫米

长度

mm

----

毫米/英寸

内径 79 毫米/3 英寸

笔记:1. 铜箔毛表面的 Rz 值是测试稳定值,不是保证值。

2.剥离强度为标准FR-4板材测试值(5张7628PP)。

3. 质量保证期为自收货之日起 90 天。


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