最佳[VLP]超薄型电解铜箔制造商和工厂 | Civen

[VLP] 超低粗糙度电解铜箔

简短描述:

病毒样颗粒, 非常低轮廓电解铜箔西文金属 具有以下特点 低的 粗糙度和剥离强度高。电解工艺生产的铜箔纯度高、杂质少、表面光滑、板形平整、宽度较大。电解铜箔单面粗化处理后,能更好地与其他材料压合,不易剥离。


产品详情

产品标签

产品介绍

CIVEN METAL生产的VLP超低粗糙度电解铜箔,具有低粗糙度、高剥离强度等特点。采用电解工艺生产的铜箔纯度高、杂质少、表面光滑、板形平整、宽度大等优点。电解铜箔单面粗化后,可以更好地与其他材料压合,不易剥离。

规格

CIVEN可提供1/4oz至3oz(标称厚度9µm至105µm)的超低轮廓高温延展电解铜箔(VLP),最大产品尺寸为1295mm x 1295mm的片状铜箔。

表现

西文 提供具有等轴细晶、低轮廓、高强度、高延伸率等优异物理特性的超厚电解铜箔。(见表1)

应用

适用于汽车、电力、通讯、军工、航空航天等大功率电路板、高频板的制造。

特征

与国外同类产品比较。
1.我公司VLP电解铜箔的晶粒结构为等轴细晶球状;而国外同类产品的晶粒结构为柱状、长晶。
2、电解铜箔为超低轮廓,3oz铜箔毛面Rz≤3.5µm;而国外同类产品均为标准轮廓,3oz铜箔毛面Rz>3.5µm。

优势

1.由于我司产品为超薄型,解决了标准厚铜箔粗糙度较大,压合双面板时“狼牙”易刺穿薄绝缘片而造成线路短路的潜在风险。
2.由于我公司产品的晶粒结构为等轴细晶球状,缩短了线路蚀刻的时间,改善了线路侧蚀不均匀的问题。
3、同时具备剥离强度高、无铜粉转移、图形清晰的PCB制造性能。

性能(GB/T5230-2000、IPC-4562-2000)

分类

单元

9微米

12微米

18微米

35微米

70微米

105微米

铜含量

%

≥99.8

面积重量

克/米2

80±3

107±3

153±5

283±7

585±10

875±15

抗拉强度

室温(23℃)

千克/毫米2

≥28

高温(180℃)

≥15

≥18

≥20

伸长

室温(23℃)

%

≥5.0

≥6.0

≥10

高温(180℃)

≥6.0

≥8.0

粗糙度

闪亮(Ra)

微米

≤0.43

哑光(Rz)

≤3.5

剥离强度

室温(23℃)

公斤/平方厘米

≥0.77

≥0.8

≥0.9

≥1.0

≥1.5

≥2.0

HCΦ降解率(18%-1hr/25℃)

%

≤7.0

颜色变化(E-1.0hr/200℃)

%

好的

浮焊温度 290℃

≥20

外观(斑点及铜粉)

----

没有任何

针孔

EA

尺寸公差

宽度

mm

0~2毫米

长度

mm

----

毫米/英寸

内径 79 毫米/3 英寸

笔记:1.铜箔毛面的Rz值是试验稳定值,并非保证值。

2、剥离强度为标准FR-4板测试值(5张7628PP)。

3.质量保证期为收货日起90天。


  • 以前的:
  • 下一个:

  • 在这里写下您的信息并发送给我们