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[RTF] 反向处理的ED铜箔

简短描述:

RTF,r反转治疗电解铜箔是指双面经过不同程度粗糙化的铜箔。这种粗糙化处理增强了铜箔双面的剥离强度,使其更易于用作与其他材料粘合的中间层。此外,铜箔双面不同的处理程度也使得蚀刻较薄的粗糙面更加容易。在印刷电路板 (PCB) 面板的制造过程中,将铜箔的粗糙面贴合到介电材料上。处理过的铜箔面比另一面更粗糙,从而与介电材料具有更强的粘合力。这是其相对于标准电解铜的主要优势。哑光面在涂覆光刻胶之前无需任何机械或化学处理。其粗糙度已足以保证良好的光刻胶粘合。


产品详情

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产品介绍

RTF(反向处理电解铜箔)是一种双面均经过不同程度粗糙化的铜箔。这种处理增强了铜箔双面的剥离强度,使其更易于用作与其他材料粘合的中间层。此外,铜箔双面不同的处理程度也使得蚀刻较薄的粗糙面更加容易。在印刷电路板 (PCB) 面板的制造过程中,将铜箔的处理面贴附到介电材料上。处理面比另一面更粗糙,从而与介电材料具有更强的粘合力。这是其相对于标准电解铜的主要优势。哑光面在涂覆光刻胶之前无需任何机械或化学处理。其粗糙度已足以保证良好的光刻胶粘合。

规格

CIVEN 可供应标称厚度为 12 至 35µm、宽度达 1295mm 的 RTF 电解铜箔。

表现

经高温拉伸反向处理的电解铜箔,采用精确的电镀工艺控制铜瘤的大小并使其均匀分布。反向处理后的铜箔光亮表面可显著降低压合铜箔的粗糙度,并赋予铜箔足够的剥离强度。(见表1)

应用程序

可用于高频产品和内部层压板,例如 5G 基站、汽车雷达等设备。

优势

它具有良好的粘合强度、可直接进行多层层压以及优异的蚀刻性能。此外,它还能降低短路风险并缩短工艺周期。

表1. 性能

分类

单元

1/3盎司

(12微米)

1/2盎司

(18微米)

1盎司

(35微米)

铜含量

%

最低 99.8

面积重量

克/米2

107±3

153±5

283±5

抗拉强度

室温(25℃)

千克/毫米2

最低 28.0

HT(180℃)

最低 15.0

最低 15.0

最低 18.0

伸长

室温(25℃)

%

最低 5.0

最低 6.0

最低 8.0

HT(180℃)

最低 6.0

粗糙度

Shiny(Ra)

微米

最大值 0.6/4.0

最大值 0.7/5.0

最大值 0.8/6.0

Matte(Rz)

最大值 0.6/4.0

最大值 0.7/5.0

最大值 0.8/6.0

剥落强度

室温(23℃)

千克/厘米

最小值 1.1

最小值 1.2

最小值 1.5

HCΦ的降解率(18%-1hr/25℃)

%

最高 5.0

颜色变化(E-1.0小时/190℃)

%

没有任何

焊锡浮焊温度290℃

最多 20

针孔

EA

预处理

----

FR-4

笔记:1. 铜箔毛表面的 Rz 值是测试稳定值,不是保证值。

2.剥离强度为标准FR-4板材测试值(5张7628PP)。

3. 质量保证期为自收货之日起 90 天。


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