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[RTF] 反向处理 ED 铜箔

简短说明:

RTF,r埃弗塞治疗过的电解铜箔是两面经过不同程度粗化处理的铜箔。这增强了铜箔两面的剥离强度,使其更容易用作与其他材料粘合的中间层。而且,铜箔两面的不同程度的处理使得更容易蚀刻粗化层较薄的一面。在制造印刷电路板 (PCB) 面板的过程中,将经过处理的铜面施加到介电材料上。处理过的鼓面比另一面更粗糙,这对电介质具有更大的粘附力。这是相对于标准电解铜的主要优点。在施加光致抗蚀剂之前,无光泽面不需要任何机械或化学处理。它已经足够粗糙以具有良好的层压抗蚀剂粘附力。


产品详情

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产品介绍

RTF,反向处理电解铜箔,是两面都经过不同程度粗化处理的铜箔。这增强了铜箔两面的剥离强度,使其更容易用作与其他材料粘合的中间层。而且,铜箔两面的不同程度的处理使得更容易蚀刻粗化层较薄的一面。在制造印刷电路板 (PCB) 面板的过程中,将经过处理的铜面施加到介电材料上。处理过的鼓面比另一面更粗糙,这对电介质具有更大的粘附力。这是相对于标准电解铜的主要优点。在施加光致抗蚀剂之前,无光泽面不需要任何机械或化学处理。它已经足够粗糙以具有良好的层压抗蚀剂粘附力。

规格

CIVEN可以提供标称厚度为12至35微米、宽度最大为1295毫米的RTF电解铜箔。

表现

高温伸长反转处理电解铜箔经过精密电镀工艺,控制铜瘤大小并分布均匀。经过反转处理的铜箔光亮面可以显着降低压在一起的铜箔的粗糙度,并提供足够的铜箔剥离强度。 (见表1)

应用领域

可用于高频产品及内层压板,如5G基站和汽车雷达等设备。

优点

粘接强度好,可直接多层压合,蚀刻性能良好。它还减少了短路的可能性并缩短了工艺周期时间。

表 1. 性能

分类

单元

1/3盎司

(12微米)

1/2盎司

(18微米)

1盎司

(35μm)

铜含量

%

分钟。 99.8

面积重量

克/米2

107±3

153±5

283±5

抗拉强度

室温(25℃)

公斤/毫米2

分钟。 28.0

高温(180℃)

分钟。 15.0

分钟。 15.0

分钟。 18.0

伸长

室温(25℃)

%

分钟。 5.0

分钟。 6.0

分钟。 8.0

高温(180℃)

分钟。 6.0

粗糙度

闪亮(Ra)

微米

最大限度。 0.6/4.0

最大限度。 0.7/5.0

最大限度。 0.8/6.0

哑光(Rz)

最大限度。 0.6/4.0

最大限度。 0.7/5.0

最大限度。 0.8/6.0

剥离强度

室温(23℃)

公斤/厘米

分钟。 1.1

分钟。 1.2

分钟。 1.5

HCΦ降解率(18%-1hr/25℃)

%

最大限度。 5.0

变色(E-1.0hr/190℃)

%

没有任何

浮焊290℃

秒。

最大限度。 20

针孔

EA

普雷珀格

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FR-4

笔记:1、铜箔毛面Rz值为测试稳定值,并非保证值。

2、剥离强度为标准FR-4板测试值(5张7628PP)。

3.质量保证期为自收货之日起90天。


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