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[RTF] 反向处理电解铜箔

简短描述:

RTF,r埃弗塞治疗电解铜箔是一种两面均经过不同程度粗糙处理的铜箔。这增强了铜箔两面的剥离强度,使其更容易用作粘合其他材料的中间层。此外,铜箔两面不同程度的处理也使粗糙层较薄的一侧更容易蚀刻。在制作印刷电路板 (PCB) 面板的过程中,铜箔的处理面被应用于介电材料。处理过的滚筒面比另一面更粗糙,这使其与介电材料具有更强的粘附性。这是它优于标准电解铜的主要优势。在施加光刻胶之前,粗糙面不需要任何机械或化学处理。它已经足够粗糙,具有良好的层压抗蚀剂附着力。


产品详情

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产品介绍

RTF,即反向处理电解铜箔,是一种两面均经过不同程度粗糙化的铜箔。这增强了铜箔两面的剥离强度,使其更容易用作粘合其他材料的中间层。此外,铜箔两面不同程度的处理使粗糙层较薄的一面更容易蚀刻。在制作印刷电路板 (PCB) 面板的过程中,铜箔的处理面被应用于介电材料。处理过的滚筒面比另一面更粗糙,这使其与介电材料具有更强的粘附性。这是它优于标准电解铜的主要优势。在施加光刻胶之前,无光泽面不需要任何机械或化学处理。它已经足够粗糙,具有良好的层压抗蚀剂粘附性。

规格

CIVEN 可提供标称厚度为 12 至 35µm、宽度最大为 1295mm 的 RTF 电解铜箔。

表现

高温延伸反转处理电解铜箔,经过精密的电镀工艺,控制铜瘤大小并使其分布均匀。反转处理的铜箔亮面,可显著降低铜箔压合时的粗糙度,并提供足够的铜箔剥离强度。(见表1)

应用

可用于高频产品及内层压板,如5G基站及汽车雷达等设备。

优势

结合强度佳,可直接多层压合,且蚀刻性能佳,降低短路风险,缩短制程周期。

表 1. 性能

分类

单元

1/3盎司

(12微米)

1/2盎司

(18微米)

1盎司

(35微米)

铜含量

%

最低 99.8

面积重量

克/米2

107±3

153±5

283±5

抗拉强度

室温(25℃)

千克/毫米2

最小 28.0

高温(180℃)

最小 15.0

最小 15.0

最小 18.0

伸长

室温(25℃)

%

最小值 5.0

最低 6.0

最低 8.0

高温(180℃)

最低 6.0

粗糙度

闪亮(Ra)

微米

最大0.6/4.0

最大0.7/5.0

最大0.8/6.0

哑光(Rz)

最大0.6/4.0

最大0.7/5.0

最大0.8/6.0

剥离强度

室温(23℃)

公斤/平方厘米

最少 1.1

最少 1.2

最少 1.5

HCΦ降解率(18%-1hr/25℃)

%

最大5.0

颜色变化(E-1.0hr/190℃)

%

没有任何

浮焊温度 290℃

最多 20

针孔

EA

预浸料

----

FR-4

笔记:1.铜箔毛面的Rz值是试验稳定值,并非保证值。

2、剥离强度为标准FR-4板测试值(5张7628PP)。

3.质量保证期为收货日起90天。


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