<img height =“ 1” width =“ 1” style =“ display:none” src =“ https://www.facebook.com/tr?id=16663378561090394&ev=pageview&noscript&noscript = 1”/> 新闻 - 电解(ED)铜箔和滚动(RA)铜箔之间有什么区别

电解(ED)铜箔和滚动(RA)铜箔之间有什么差异

物品

ED

RA

过程特征→制造过程→晶体结构

→厚度范围

→最大宽度

→可用脾气

→表面处理

 化学电镀法柱状结构

6μm〜140μm

1340mm(通常为1290mm)

难的

双光泽 /单垫 /双垫

 物理滚动方法球形结构

6μm〜100μm

650mm

硬 /软

单灯 /双灯

生产 困难 短生产周期和相对简单的过程 长生产周期和相对复杂的过程
处理难度 该产品更难,更脆,易于破裂 可控的产品状态,出色的延展性,易于霉菌
申请 它通常用于需要电导率,导热率,散热,屏蔽等的行业中,由于产品的宽度宽,生产中的边缘材料较少,可以节省部分加工成本。 主要用于高端导电,散热和屏蔽产品。产品具有良好的延展性,并且易于处理和形状。中高端电子组件的首选材料。
相对优势 短生产周期和相对简单的过程。更宽的宽度使得可以轻松节省处理成本。而且制造成本相对较低,市场容易接受。厚度越薄,与压制的铜箔相比,电解铜箔价格的优势越明显。 由于产品的纯度和密度很高,因此适用于对延展性和柔韧性高需求的产品。此外,电导率和热量耗散特性比电解铜箔的电导率更好。产品的状态可以由该过程控制,这使得满足客户的处理要求变得更加容易。它还具有更好的耐用性和抗疲劳性,因此可以用作原材料,以使目标产品更长的使用寿命。
相对缺点 延展性不佳,处理困难和耐用性不佳。 处理宽度,更高的生产成本和长期处理周期有限制。

发布时间:8月16日至2021年